近日,浙江省集成电路创新平台(浙江创芯集成电路有限公司)联合浙江大学集成电路学院正式发布硅光PDK,并同步面向高校、产业开放服务。作为发布后的首次重要实践,全国首期硅光方向MPW流片专项特训同期圆满收官。在浙江大学集成电路学院指导下,本次特训由浙江创芯联合Luceda Photonics共同主办,是国内首次将硅光MPW流片资源系统引入教学实训。

▲ 创芯硅光PDK下载网址:https://xhm.icsprout.com/
直击痛点,打通全流程技术链路
当前硅光产业普遍面临工艺平台稀缺、专用PDK供给不足、设计工具准入门槛高、工程化实训资源紧缺等发展瓶颈。本次特训依托创芯12英寸硅光中试线与Luceda光电子芯片设计自动化软件,课程覆盖硅光工艺认知、器件建模仿真、PIC布局布线、DRC版图验证等核心模块。
学员完整经历从器件认知、光路设计到版图交付的全技术链路,独立完成PIC芯片设计与版图输出,成果将于2026年9月末开展MPW流片验证。首期参训人员汇集高校科研人员与产业技术骨干,实现学术前沿与工程经验深度交融,构建起"理论教学+软件实操+MPW流片"的闭环实训体系。

▲ Luceda光电子芯片设计自动化软件-设计流程示意图
推广示范,持续扩大开放合作
以本次硅光PDK发布及首期特训为起点,浙江创芯对本次教学内容进行系统梳理,打造标准化示范课程,持续对外开放硅光MPW流片公共服务,诚邀全国高校教师、科研团队开展流片验证、课题攻关、教学实训等合作,降低硅光领域科研教学的工程实践门槛。

▲ 浙江创芯12英寸硅光中试线
此次硅光PDK的正式发布及首期特训的圆满实践,是硅光产教融合的一次重要实践突破。未来,浙江创芯将充分发挥公共服务功能,畅通从实验室研发到产业化落地的技术通道,持续输出可落地的“创芯方案”,以实战化人才培养赋能技术迭代创新,凝聚产学研多方合力,为我国集成电路与硅光产业高质量发展筑牢人才根基,服务国家集成电路产业战略大局。

来源:人才培训事业部
编辑:费世怡
审核:王柽燃
审定:王春亚
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